
物理氣相沉積(Physical vapor deposition,PVD)是一種在真空條件下采用物理方法,將固體或液體材料表面氣化成氣態原子、分子或部分電離成離子,并通過低壓氣體(或等離子體)過程,在基體表面沉積具有某種特殊功能薄膜的技術。
物理氣相沉積技術不僅可以沉積金屬膜、合金膜 ,還可以沉積化合物 、陶瓷 、半導體 、聚合物膜等,是具有廣泛應用前景的新材料制造技術。采用此技術制備的超硬薄膜不僅具有超高硬度,且超薄、耐高溫、無污染、幾乎零排放,適合于工具 、零件和摩擦磨損件表面的耐磨損、抗氧化、防腐蝕、自潤滑等特殊性能要求,是現代表面工程技術中最有發展前途和應用價值的一種技術 。
PVD  | 優點  | 缺點  | 應用  | 
真空蒸鍍  | ● 原理簡單,操作方便,沉積參數易于控制  | 薄膜與襯底的附著性相對較差,工藝重復性不太理想  | 真空蒸鍍用于高、低折射率材料的光學干涉鍍膜、鏡面鍍膜、裝飾鍍膜、軟包裝材料上的滲透阻隔膜、導電膜、防腐蝕涂層等。沉積金屬時,真空蒸鍍有時也稱為真空金屬化。  | 
濺射沉積  | ● 薄膜與襯底附著性好  | ● 設備復雜,沉積參數控制較難  | 濺射沉積廣泛用于在半導體材料上沉積薄膜金屬化、建筑玻璃上的涂層、聚合物上的反射涂層、存儲介質的磁性薄膜、玻璃和柔性網上的透明導電薄膜、干膜潤滑劑、耐磨涂層在工具和裝飾涂層上。  | 
離子鍍  | ● 薄膜與襯底附著性好  | ● 有許多加工變量需要控制  | 離子鍍用于在復雜表面上沉積復合材料的硬質涂層、附著金屬涂層、高密度光學涂層和保形涂層。使用離子鍍在航空航天部件上沉積鋁膜稱為離子氣相沉積。  | 
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